特許
J-GLOBAL ID：200903080201333716
直交変換基底生成方式
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-156504
公開番号（公開出願番号）：特開平7-038760
出願日： 1993年06月28日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】基底選択の方式を定め、対象領域の形状情報だけから直交変換基底を生成することにより、従来に比し計算誤差等の影響を格段に少なくした直交変換基底生成方式の提供。【構成】対象領域を含む長方形領域て定義された正規直交変換基底から、領域の存在する画素だけを残したものを基底候補とし、これに特定の順序づけをし、一番目の基底候補を一番目の基底とする(ステップ11〜14)。二番目以降は、番号順にとりだし、グラム・シュミットの直交化法によりそれまでに生成された基底で張られる空間に対する直交成分を求めて一定値と比較し(ステップ15〜18)、大のときにはこれを直交基底とし、それ以外は次番号をとりだし、上記の処理を領域の画素数分の基底が得られるまで続ける(ステップ19)。
請求項（抜粋）：
符号化すべき画素からなる任意形状の符号化対象領域に対応する直交変換基底を生成する直交変換基底生成方式において、前記対象領域を含む長方形領域で定義された正規直交変換基底を求め、前記正規直交変換基底から前記対象領域の形状に切り出した部分正規直交変換基底を基底候補とし、前記基底候補に特定の順序付けを行ない、第1番目の基底候補を取り出してこれを第1番目の直交基底とし、第2番目以降は前記特定の順序付け順に前記基底候補を取り出し、グラム・シュミットの直交化法により既に得られている直交基底により張られる空間に対する直交成分を求め、前記直交成分の絶対値と一定値とを比較し、一定値より大きいときにはその直交成分を次の直交基底とし、一定値より大きくないときには前記特定の順序付け順に従って新たな基底候補を取り出して前記符号化すべき画素数に対応する直交基底を得るまで前記第2番目以降に対する処理を繰り返えす工程を含むことを特徴とする直交変換基底生成方式。
IPC (4件)：
H04N 1/41
, G06T 9/00
, H03M 7/30
, H04N 7/30
G06F 15/66 330 H
, H04N 7/133 Z
