特許

J-GLOBAL ID：200903080204207355

スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット

発明者： 三島 昭史 ,  塩野 一郎 ,  姜 仁鎬 ,  小田 淳一
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-205203
公開番号（公開出願番号）：特開2000-040272
出願日： 1998年07月21日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 大電力スパッタリングを行っても割れ発生がない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 二酸化ケイ素:10〜30mol%を含有し、さらにLi、Al、SbおよびTeの内の1種または2種以上を合計で0.001〜1mol%を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

二酸化ケイ素:10〜30mol%、Li:0.001〜1mol%を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有する焼結体からなることを特徴とするスパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (2件)：

G11B 7/26 531 ,  C23C 14/34

FI (2件)：

G11B 7/26 531 ,  C23C 14/34 A

Fターム (10件)：

4K029BA46 ,  4K029BA51 ,  4K029BD12 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09 ,  5D121EE13 ,  5D121EE14