特許
J-GLOBAL ID：200903080212131465
純水製造装置および純水製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-226603
公開番号（公開出願番号）：特開平10-066971
出願日： 1996年08月28日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【効果】 半導体製造等の電子工業分野、医薬品製造分野、透析医療分野等において洗浄用、配合用、希釈用に使用される高度に精製された透過水即ち純水を製造する為の分離膜式純水製造装置において、ユースポイントでの純水使用を停止することなく、逆浸透部分や紫外線殺菌部分の装置メンテナンスや洗浄・滅菌が行える。【構成】 原水を前処理する1次系処理システム(A)と、前処理された原水を膜分離して純水を製造する2次系処理システム(B)と、純水を受け入れてブローアウトする除菌フィルター格納部(C)から構成し、該(A)と該(B)の間から分岐して該(B)の下流で合流するバイパスラインを設けたことを特徴とする純水製造装置。
請求項（抜粋）：
原水を前処理する1次系処理システム(A)と、前処理された原水を膜分離して純水を製造する2次系処理システム(B)と、純水を受け入れてブローアウトする除菌フィルター格納部(C)から構成し、該(A)と該(B)の間から分岐して該(B)の下流で合流するバイパスラインを設けたことを特徴とする純水製造装置。
IPC (6件)：
C02F 1/42
, B01D 39/14
, B01D 61/08
, C02F 1/28
, C02F 1/32
, C02F 1/44
C02F 1/42 A
, B01D 39/14 M
, B01D 39/14 G
, B01D 61/08
, C02F 1/28 F
, C02F 1/32
, C02F 1/44 J
