特許
J-GLOBAL ID:200903080213320628

電子線装置及びその装置を用いたデバイスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-337565
公開番号(公開出願番号):特開2003-142020
出願日: 2001年11月02日
公開日(公表日): 2003年05月16日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】マルチビーム装置で二次電子を検出器に入射させるためのコンデンサレンズを必要とせず、二次電子を効率よく検出するようにする。【解決手段】 電子銃11から放出された電子線を複数の電子ビームに形成し、電子ビームで試料S上を走査して照射する光学系10と、電子ビームの照射により試料から放出された二次電子を検出する複数の検出器21とを備えている。複数の電子ビームは、前記電子ビームを照射する光学系の光軸Aの周りに形成されて試料上を照射する。また、複数の検出器は対物レンズ18の電子銃側でE×B分離器の後に配置されている。試料からの二次電子は加速されて対物レンズを通過した後、E×B分離器で偏向され、複数の検出器でそれぞれ独立して検出される。
請求項(抜粋):
電子銃から放出された電子線を複数の電子ビームに形成し、前記複数の電子ビームを試料上で走査させて照射する光学系と、前記電子ビームの照射により試料から放出された二次電子を検出する複数の検出器とを備えた電子線装置であって、前記電子ビームを照射する光学系の光軸の周りに前記複数の電子ビームを形成して試料上を照射し、前記複数の検出器を対物レンズの電子銃側で前記試料面と二次電子に対してほぼ光学的に共役な面に配置し、試料からの二次電子を加速して前記対物レンズに通した後、E×B分離器で偏向し、前記複数の検出器でそれぞれ独立して検出するようにしたことを特徴とする電子線装置。
IPC (5件):
H01J 37/28 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66
FI (5件):
H01J 37/28 B ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V
Fターム (10件):
4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB05 ,  5C033NN01 ,  5C033NP01 ,  5C033NP05 ,  5C033NP06 ,  5C033UU02 ,  5C033UU04

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