特許

J-GLOBAL ID：200903080217121212

基板処理装置

発明者： 山本 哲夫 ,  谷山 智志
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-196402
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017427
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】【課題】簡単な機構で反応管が着脱できる支持機構部を有した基板処理装置を提供する。【解決手段】反応管18と該反応管下方に気密チャンバ8を有する基板処理装置に於いて、前記反応管が前記気密チャンバにフランジ15を介して取付けられ、該フランジは前記気密チャンバに着脱可能であり、又前記フランジの前記気密チャンバに対する取付け口36の内径D2 は前記反応管の最大径D1 より大きく、前記フランジを前記気密チャンバより取外した状態で前記反応管を前記気密チャンバ内に降下可能とした。

請求項（抜粋）：

反応管と該反応管下方に気密チャンバを有する基板処理装置に於いて、前記反応管が前記気密チャンバにフランジを介して取付けられ、該フランジは前記気密チャンバに着脱可能であり、又前記フランジの前記気密チャンバに対する取付け口の内径は前記反応管の最大径より大きく、前記フランジを前記気密チャンバより取外した状態で前記反応管を前記気密チャンバ内に降下可能としたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/22 501 K ,  H01L 21/205

Fターム (12件)：

5F045BB09 ,  5F045BB10 ,  5F045BB15 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EB02 ,  5F045EJ01 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK06 ,  5F045EK23 ,  5F045EM10 ,  5F045EN08