特許

J-GLOBAL ID：200903080224447514

液浸式投影露光装置

発明者： 高橋 一雄
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-296518
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124873
出願日： 1992年10月09日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【目的】 従来のプロセス技術を生かせる液浸式露光装置を提供する。【構成】 レチクルを照明する照明手段、これによって照明されたレチクル上のパターンをウエハ上に投影する投影光学手段、ウエハを所定位置に位置決めする位置決め手段を備えた投影露光装置において、投影光学手段はウエハの露光面に対向し、平面もしくはウエハ側へ凸んだ凸面を有する光学素子、およびこの光学素子の平面もしくは凸面とウエハの露光面との間を少なくとも満たす液体を保持するための液槽を具備する。

請求項（抜粋）：

レチクルを照明する照明手段、これによって照明されたレチクル上のパターンをウエハ上に投影する投影光学手段、ウエハを所定位置に位置決めする位置決め手段を備えた投影露光装置において、投影光学手段はウエハの露光面に対向し、平面もしくはウエハ側へ凸んだ凸面を有する光学素子、およびこの光学素子の平面もしくは凸面とウエハの露光面との間を少なくとも満たす液体を保持するための液槽を具備することを特徴とする液浸式投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521