特許

J-GLOBAL ID：200903080225443148

ホトリソグラフィ用スピンオンガラス反射防止膜のための吸収性化合物

発明者： ボールドウイン,テリーサ ,  リツチー,メアリー ,  ドレイジ,ジエイムズ ,  ウー,ホイ-ジユン ,  スピア,リチヤード
出願人/特許権者： ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド
代理人 (5件)： 川口 義雄 ,  井上 満 ,  一入 章夫 ,  小野 誠 ,  大崎 勝真
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-512299
公開番号（公開出願番号）：特表2004-504328
出願日： 2001年07月12日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

酸素結合を介してナフタレンまたはアントラセン発色団に結合しているシリコンエトキシ、シリコンジエトキシまたはシリコントリエトキシ基を含む吸収性エーテル性化合物を有機吸収性化合物として使用する。前記吸収性エーテル性化合物をスピンオンガラス材料に配合して、遠紫外線ホトリソグラフィ用反射防止膜材を提供する。前記吸収性エーテル化合物の合成方法は、アルコールの存在下でのアルコール置換発色団とアセトキシシリコン化合物の反応に基づく。前記吸収性エーテル性化合物を含む吸収性スピンオンガラス材料の作成方法も提供する。

請求項（抜粋）：

2または3個の環を含むアルコール置換縮合ベンゼン環化合物、アセトキシシリコン化合物、アルコール及び溶媒を混合して反応混合物を生成し、前記反応混合物を光吸収性エーテル性化合物を形成するのに十分な時間撹拌し、酸性副生成物を除去することを含むことを特徴とする光吸収性エーテル性化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C07F7/18 ,  C08K5/5415 ,  C08L83/05 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

FI (5件)：

C07F7/18 D ,  C08K5/5415 ,  C08L83/05 ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 574

Fターム (15件)：

2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ08 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS30 ,  4H049VU20 ,  4H049VV05 ,  4H049VW02 ,  4J002CP041 ,  4J002EX036 ,  4J002GP00 ,  5F046PA07