特許

J-GLOBAL ID：200903080230628415

蒸着装置、有機蒸発源、有機薄膜製造方法

発明者： 長嶋 直樹 ,  高橋 夏木 ,  根岸 敏夫
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-342649
公開番号（公開出願番号）：特開平10-158820
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】【課題】有機薄膜材料の温度オーバーシュートを無くし、昇降温時間を短縮し、また、蒸着時以外の有機化合物蒸気の発生を抑制する。【解決手段】有機蒸発源内に配置された有機薄膜材料を不活性ガス雰囲気に置いて所定温度まで昇温させ(S3、S4)、真空雰囲気にして有機薄膜材料の蒸気を発生させ(S5)、有機薄膜の形成を行う(S6、S7)。不活性ガス雰囲気中では有機薄膜材料蒸気の発生が抑えられるので、有機薄膜材料が有効活用できる。また、不活性ガスが熱媒体となるので、昇温速度が速く、均熱性もよい。降温の際も不活性ガス雰囲気下で行うと冷却速度が速くなる。

請求項（抜粋）：

真空排気可能に構成された真空槽と、有機薄膜材料が納められた有機蒸発源とを有し、前記有機薄膜材料の温度を制御してその蒸気を発生させると前記真空槽内に配置された成膜対象物表面に有機薄膜を形成できるように構成された蒸着装置であって、前記真空槽にはガス導入口が設けられ、前記真空槽内に不活性ガスを導入できるように構成されたことを特徴とする蒸着装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 有機超格子光電子素子とその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-243177   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭60-145372
  
• 特公平7-018000