特許

J-GLOBAL ID：200903080253795726

ヒドロシリル化を利用したシリル化物の製造方法及び該シリル化物

発明者： 上島 健二
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-317998
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131231
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 製品の品質に影響を与えることなく、安全な手段でヒドロシリル化反応を促進すること。【解決手段】 水素化珪素化合物(A)とアルケニル基を含有する化合物(B)とのヒドロシリル化反応を行うことにより、加水分解性シリル基含有化合物を製造する方法において、第8族金属を含む塩又は錯体(C)と水素化珪素化合物(D)とを予め混合したものを触媒として使用する。

請求項（抜粋）：

(A)一般式(1):Ra Xb Hc Si (1)(式中、Rは、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基又はトリオルガノシロキシ基を表し、aが2以上の場合Rはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Xは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基又は水酸基を表し、bが2以上の場合Xはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。aは0〜3の整数を表す。b及びcは同一又は異なって1〜3の整数を表す。ただしa+b+c=4を満たす。)で表される水素化珪素化合物と、(B)アルケニル基を含有する化合物とのヒドロシリル化反応を、(C)第8族金属を含む触媒の存在下で行うことにより、加水分解性シリル基含有化合物を製造する方法であって、前記(C)第8族金属を含む触媒は、予め(D)一般式(2):R′a'X′b'Hc'Si (2)(式中、R′は、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基又はトリオルガノシロキシ基を表し、a′が2以上の場合R′はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。X′は、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基又は水酸基を表し、b′が2以上の場合X′はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。a′及びb′は同一又は異なって0〜3の整数を表す。c′は1〜3の整数を表す。ただしa′+b′+c′=4を満たす。)で表される水素化珪素化合物との混合物とされて使用され、かつ、反応器気相部の酸素濃度は、前記(A)一般式(1)で表される水素化珪素化合物及び前記(D)一般式(2)で表される水素化珪素化合物の爆発限界酸素濃度以下であることを特徴とする製造方法。

IPC (3件)：

C08F 8/42 ,  C07F 7/18 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C08F 8/42 ,  C07F 7/18 B ,  C07B 61/00 300

Fターム (24件)：

4H039CA92 ,  4H039CF10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP11 ,  4H049VQ20 ,  4H049VR11 ,  4H049VR21 ,  4H049VR42 ,  4H049VS21 ,  4H049VT17 ,  4H049VT25 ,  4H049VT30 ,  4H049VU17 ,  4H049VU20 ,  4H049VV22 ,  4H049VW02 ,  4H049VW31 ,  4J100BA71H ,  4J100HA37 ,  4J100HC11 ,  4J100JA01 ,  4J100JA03 ,  4J100JA05