特許

J-GLOBAL ID：200903080254530998

位置検出装置の検査方法、位置検出装置、露光装置、および露光方法

発明者： 中村 綾子
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-295511
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134474
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】位置検出用二次元マークを検出する際の位置検出装置の検出視野とほぼ同じ視野部分の光学状態を高精度に検査することのできる検査方法。【解決手段】検査用マーク(CM)は、その中心(O)から所定距離だけ間隔を隔てて配置された第1パターン(CM1)と第2パターン(CM2)とを備えている。第1パターンおよび第2パターンは、構造形態の異なる基準パターンと計測パターンとを有する。位置検出装置により、基準パターンの位置および計測パターンの位置を検出し、検出した基準パターンの位置と計測パターンの位置との相対関係に基づいて位置検出装置の光学状態を検査する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

検査用マークが形成された検査用基板を用いて位置検出装置の光学状態を検査する方法において、 前記検査用マークは、前記検査用マークの中心から第1方向に沿って所定距離だけ間隔を隔てて配置されて前記第1方向に周期性を有する第1パターンと、前記中心から前記第1方向と直交する第2方向に沿って前記所定距離だけ間隔を隔てて配置されて前記第2方向に周期性を有する第2パターンとを備え、 前記第1パターンは、第1基準パターンと、該第1基準パターンと構造形態の異なる第1計測パターンとを有し、 前記第2パターンは、第2基準パターンと、該第2基準パターンと構造形態の異なる第2計測パターンとを有し、 前記位置検出装置により、前記第1基準パターンの位置、前記第1計測パターンの位置、前記第2基準パターンの位置、および前記第2計測パターンの位置を検出する検出工程と、 前記検出工程で検出した前記第1基準パターンの位置と前記第1計測パターンの位置との相対関係および前記第2基準パターンの位置と前記第2計測パターンの位置との相対関係に基づいて前記位置検出装置の光学状態を検査する検査工程とを含むことを特徴とする検査方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F9/00

FI (3件)：

H01L21/30 502M ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 522B

Fターム (14件)：

5F046EA03 ,  5F046EA04 ,  5F046EA09 ,  5F046EA12 ,  5F046EA13 ,  5F046EB01 ,  5F046EC05 ,  5F046FA03 ,  5F046FA10 ,  5F046FB06 ,  5F046FB09 ,  5F046FB11 ,  5F046FB12 ,  5F046FC04