特許
J-GLOBAL ID：200903080256123605
成膜処理装置および成膜処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-069984
公開番号（公開出願番号）：特開2004-277798
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】立体形状の基材表面に成膜処理を行なうにおいて、従来の技術では、自公転方式が用いられるが、可動機構のため、ダストの問題、ロードロック構造が難しい、電力供給や温度制御が難しい、基材の取付けなどの自動化が難しい、プロセス条件出しに膨大な成膜サンプルと時間が必要となる等の課題がある。【解決手段】実質的に同一平面上に配置した、複数個の被成膜基材の成膜処理を同時に行なう事ができる少なくとも2室以上の成膜処理室から構成される成膜処理室群を備え、さらに、少なくとも該平面と垂直方向に摺動可能である基材搬送手段と、該基材搬送手段上の搭載された基材支持台とを備え、該基材支持台上に載置された前記被成膜基材を該基材搬送手段の直動動作により前記成膜処理室への搬入または搬出が可能となる事を特徴とする成膜処理装置を用いる事により、前期課題を解決することができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
大気圧から減圧させるロードロック室と、所定真空度まで減圧可能な成膜処理室と、該成膜処理室にガスを供給するためのガス供給手段と、該成膜処理室の減圧するための排気手段と、プラズマを発生させるための電力供給手段とを備えた、被成膜処理基材の表面に成膜処理を行うための成膜処理装置であって、
実質的に同一平面上に配置した、複数個の被成膜基材の成膜処理を同時に行なう事ができる少なくとも2室以上の同構成の成膜処理室から構成される成膜処理室群を備え、さらに、少なくとも該平面と垂直方向に摺動可能である基材搬送手段と、該基材搬送手段上の搭載された基材支持台とを備え、該基材支持台上に載置された前記被成膜基材を該基材搬送手段の直動動作により前記成膜処理室への搬入または搬出が可能となる事を特徴とする成膜処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C16/44 F
, C23C14/56 G
4K029BA17
, 4K029BD03
, 4K029CA05
, 4K029KA01
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030BB12
, 4K030FA01
, 4K030GA12
, 4K030HA04
, 4K030LA21
, 4K030LA23
