特許
J-GLOBAL ID:200903080262033960

変性ホージヤサイト型ゼオライトの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 友松 英爾 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-283604
公開番号(公開出願番号):特開平5-097427
出願日: 1991年10月03日
公開日(公表日): 1993年04月20日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、ホージャサイト型ゼオライト、特に150°C以上の熱履歴を受けていないホージャサイト型ゼオライトを酸処理することにより、ゼオライトの単位格子を減じ、シリカ/アルミナのモル比を増大させた非常に熱安定性に優れた変性ホージャサイト型ゼオライトの製造法の提供。【構成】 ホージャサイト型ゼオライトを水相中に懸濁し、温度50°C以上の条件下で、該懸濁液中に酸を0.2g当量/Hr.1モル-ゼオライト以下の速度で添加し、pH4以下とすることを特徴とする変性ホージャサイト型ゼオライトの製造方法。
請求項(抜粋):
ホージャサイト型ゼオライトを水相中に懸濁し、温度50°C以上の条件下で、該懸濁液中に酸を0.2g当量/Hr.1モル-ゼオライト以下の速度で添加し、pH4以下とすることを特徴とする変性ホージャサイト型ゼオライトの製造方法。
IPC (2件):
C01B 33/34 ,  B01J 29/08

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