特許
J-GLOBAL ID：200903080262501816
フォトレジスト塗布前処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-165214
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005505
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】レジスト塗布前処理装置の密閉式チャンバー内において、薬液雰囲気の濃度及び圧力変化によるレジストの密着性変化を防ぐ。【構成】レジスト塗布前のウェハ1を密閉式チャンバー3に収納し薬液雰囲気配管5により薬液雰囲気を送気する。チャンバー上部に設置した濃度センサー12によりチャンバー内の薬液雰囲気濃度を測定し、濃度制御回路11で合流する窒素の流量をマスフローコントローラ14を制御する。また、圧力センサー17により密閉式チャンバー内の圧力を測定し、圧力制御回路16で排気配管4の途中に設けられた可変流量制御弁15を制御する。
請求項（抜粋）：
半導体基板を収納する密閉式チャンバーと、バブリング機能を備えた薬液容器によりフォトレジスト塗布前処理用の薬液の雰囲気を発生させ密閉式チャンバー内に送気する機構と、この送気薬液雰囲気の濃度制御を行う機構と、密閉式チャンバー内の圧力制御を行う機構とを具備することを特徴とするフォトレジスト塗布前処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16
