特許
J-GLOBAL ID：200903080267362113
X線露光用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-052398
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250392
出願日： 1995年03月13日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：
【要約】【目的】X線リソグラフィーにおいて、X線露光の際のX線マスクと被露光体の位置合わせ精度を上げ、しかもアライメントマーク上の遮光膜形成を必要としない新たな構造のX線マスクを提供する。【構成】X線露光の際に被露光体のアライメントマークと位置合わせを行うX線マスクのアライメントマークは、アライメン光に対して吸収性の遮光部と透過性の薄膜若しくは透過性の多層膜よりなるパターン、あるいは透過性の薄膜若しくは透過性の多層膜の食刻パターンからなり、X線マスクのX線入射側のX線透過性支持膜上に形成される。アライメントマークの遮光部としてたとえばAu、透過性の薄膜としてたとえばSiN、透過性の多層膜としてたとえばSiO2 /SiN、SiO2 /SiN/SiO2 の薄膜が使われる。
請求項（抜粋）：
少なくともX線吸収性パターンと、該X線吸収性パターンを保持するX線透過性薄膜と、該X線透過性薄膜を固定する支持枠体とを有するX線露光用マスクにおいて、X線露光の際に被露光体上のアライメントマーク部と位置合わせを行なうマスク上のアライメントマーク部が、該X線露光用マスクのX線入射側に形成されていることを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
