特許

J-GLOBAL ID：200903080269826206

洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置

発明者： 真島 敏和 ,  大谷地 正憲
出願人/特許権者： システム精工株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-188932
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023159
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 ディスク基板などのワークを洗浄乾燥した後にミストや異物などが付着することなく、ワークの洗浄乾燥品質を向上し得るようにする。【解決手段】 装置本体13の処理室18内には、洗浄用の割り出しテーブル21と乾燥用の割り出しテーブル22とがそれぞれ割り出し回転自在に装着されている。乾燥後のワークを外部に搬出するワーク搬出部から、乾燥用の割り出しテーブル22のワーク着脱位置を通って洗浄用の割り出しテーブル21のワーク着脱位置に向かう水平気流Hが処理室18内に形成される。装置本体13の上部には、気流供給ダクト37が設けられ、この気流供給ダクト37からは処理室18内に上部から下部に向けて垂直気流Vが形成される。さらに、ワーク乾燥位置22b,22cのワークWの貫通孔には貫通気流が形成される。

請求項（抜粋）：

ワークの表面に研磨加工などの表面処理を行った後、該ワークの表面を洗浄し、洗浄後のワークを乾燥する洗浄乾燥方法であって、乾燥後のワークを外部に搬出するワーク搬出部から、前記乾燥用の割り出しテーブルのワーク着脱位置を通って前記洗浄用の割り出しテーブルのワーク着脱位置に向かう水平気流を処理室内に形成し、前記水平気流が形成された雰囲気の前記処理室でワークの洗浄乾燥を行うようにしたことを特徴とする洗浄乾燥方法。

IPC (2件)：

G11B 5/84 ,  B08B 3/02

FI (2件)：

G11B 5/84 Z ,  B08B 3/02 C

Fターム (19件)：

3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB33 ,  3B201AB44 ,  3B201BA08 ,  3B201BA14 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  3B201CB11 ,  3B201CB25 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD34 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112GA04 ,  5D112GA08