特許

J-GLOBAL ID：200903080276726748

スパッタリング装置および半導体装置の製造方法

発明者： 河崎 直茂
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 児玉 俊英 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-280963
公開番号（公開出願番号）：特開2003-092272
出願日： 2001年09月17日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：

【要約】【課題】 異常放電を低減し、ウエハの製造における歩留まり向上を図ることができるスパッタリング装置を得ることを目的とする。【解決手段】 容器内に配設されたターゲット材1a上にプラズマを発生させて、ウエハ上に薄膜を形成するスパッタリング装置において、ターゲット材1aが取り付けられたターゲット1と、ターゲット1の外周を囲むように設置されたシールド2と、ターゲット1とシールド2との位置関係を三次元的に変更できる各調整用モータ6、7と、ターゲット1とシールド2とにそれぞれ隣接し対向して配設された一対の電極部1c、2aと、一対の電極部1c、2aの電圧または電流の変動を測定する測定手段を備え測定手段から得られた電極部の電圧または電流の変動が最小振れ幅とになるように各調整用モータ6、7を動作させて調整する制御システムを備えたものである。

請求項（抜粋）：

容器内に配設されたターゲット材上にプラズマを発生させて、ウエハ上に薄膜を形成するスパッタリング装置において、上記ターゲット材が取り付けられたターゲットと、上記ターゲットの外周を囲むように設置されたシールドと、上記ターゲットと上記シールドとの位置関係を三次元的に変更できる移動手段と、上記ターゲットと上記シールドとにそれぞれ隣接し対向して配設された一対の電極部と、上記一対の電極部の電圧または電流の変動を測定する測定手段と、上記測定手段から得られた上記電極部の電圧または電流の変動が最小振れ幅とになるように上記移動手段を動作させて調整することを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (3件)：

H01L 21/285 ,  C23C 14/34 ,  H01L 21/203

FI (3件)：

H01L 21/285 S ,  C23C 14/34 U ,  H01L 21/203 S

Fターム (14件)：

4K029CA05 ,  4K029DC27 ,  4K029EA06 ,  4M104BB14 ,  4M104BB30 ,  4M104DD37 ,  4M104DD39 ,  4M104DD40 ,  4M104HH20 ,  5F103AA08 ,  5F103BB19 ,  5F103BB60 ,  5F103NN10 ,  5F103RR01