特許
J-GLOBAL ID:200903080280580600

修正出力スペクトルを供給するため光源を被覆する装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加藤 公久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-042485
公開番号(公開出願番号):特開2004-260169
出願日: 2004年02月19日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】十分に高い変換効率と、均質な蛍光体分布とを両立することのできる発光ダイオードを用いた照光光源を製造する方法及び装置を提供する。 【解決手段】照光光源を製造する方法は、光源を被覆するプロセスを含み、当該プロセスは、光源(310)に液体接着剤を塗布して接着剤層(330、335)を形成するステップと、発光材料(340、345)を流動化させるステップと、接着剤層の少なくとも一部を流動化された発光材料内に浸漬するステップとを有する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
光源を被覆する方法であって、 前記光源に液体接着剤を塗布して接着剤層を形成するステップと、 発光材料を流動化させるステップと、 前記接着剤層の少なくとも一部を前記流動化された前記発光材料内に浸漬するステップとを有することを特徴とする方法。
IPC (3件):
H01L33/00 ,  C09K11/02 ,  C09K11/08
FI (3件):
H01L33/00 N ,  C09K11/02 ,  C09K11/08 G
Fターム (22件):
4H001CA01 ,  4H001CC13 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA13 ,  4H001XA16 ,  4H001XA23 ,  4H001XA38 ,  4H001XA39 ,  4H001XA56 ,  4H001XA58 ,  4H001XA59 ,  4H001XA65 ,  4H001YA25 ,  4H001YA58 ,  4H001YA63 ,  5F041AA03 ,  5F041AA04 ,  5F041DA42 ,  5F041DA44 ,  5F041DA78 ,  5F041FF11

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