半導体製造用露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-134580
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335211
出願日： 1992年05月27日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】半導体製造用露光装置のレンズ性能であるレンズディストーションや倍率誤差を短時間に高精度にかつ容易に自動補正する。【構成】投影レンズ10の性能を測定するためのバーニアの副尺を設けた測定専用レチクル11と、バーニアの主尺となる基準光を送光する送光部6をウェーハステージ8上に設け、露光装置の照明部に受光部1及び信号処理部4、位置ずれ量演算部5を設けることにより、画像処理でレンズ性能であるレンズディストーションや倍率誤差を計測する。

請求項（抜粋）：

ウェーハステージ上に設けられた基準スリット光を照射する送光部と、測定用の基準マークが設けられているレチクルと、そのレチクルを透過した光を受光する受光部と、この信号を処理する信号処理部及びウェーハステージ制御部の座標データと信号処理部のデータとにより位置ずれ量を演算する位置ずれ量演算部とを備えることを特徴とする半導体製造用露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G03F 9/00 , H01L 21/66

FI (2件)：

H01L 21/30 311 M , H01L 21/30 311 L

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