特許

J-GLOBAL ID：200903080287798210

シャワープレート

発明者： 中堀 安浩
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-204151
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025984
出願日： 2000年07月05日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置用の電極を含むシャワープレートにおいて、チャンバー内にガスを均一に供給する。【解決手段】プラズマを使用する半導体製造装置における、ガスを供給するためのシャワープレートにおいて、幅0.3〜2mm、深さ3mm以上の格子状の溝を備え、この溝中に複数のガス噴出孔を形成する。

請求項（抜粋）：

プラズマを使用する半導体製造装置における、ガスを供給するためのシャワープレートにおいて、幅0.3〜2mm、深さ3mm以上の格子状の溝を備え、この溝中に複数のガス噴出孔を形成したことを特徴とするシャワープレート。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C

Fターム (17件)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA05 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BC08 ,  5F004CA09 ,  5F045BB02 ,  5F045BB04 ,  5F045EF05 ,  5F045EF11 ,  5F045EH05 ,  5F045EH06 ,  5F045EH08