特許

J-GLOBAL ID：200903080307629479

洗浄剤組成物

発明者： 大津 吉朗 ,  有馬 八重野
出願人/特許権者： 大塚製薬株式会社
代理人 (1件)： 掛樋 悠路 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-020225
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214364
出願日： 1992年02月05日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】i)式(I)の陰イオン性界面活性剤又はその塩、及び式(II)の両イオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤、ii) 式(III)の陰イオン性界面活性剤又はその塩、並びにiii)ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤、を含有する洗浄剤組成物。(式中、R1は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、R2は低級アルキル基を示し、Aは低級アルキレン基を示す。)(式中、R3は、炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、R4及びR5はそれぞれ低級アルキル基を示し、Bは低級アルキレン基を示す。)R6O(CH2CH2O)nCH2COOH (III)(式中、R6は、炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、1≦n≦10である。)【効果】この洗浄剤組成物は、皮膚に対して低刺激性で、起泡性、洗浄性等の洗浄剤としての必須の性能も充分に満足するものである。

請求項（抜粋）：

i)一般式【化1】(式中、R1 は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、R2 は低級アルキル基を示し、Aは低級アルキレン基を示す。)で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩、及び一般式【化2】(式中、R3 は、炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、R4 及びR5 はそれぞれ低級アルキル基を示し、Bは低級アルキレン基を示す。)で表わされる両イオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤、ii) 一般式 R6 O(CH2 CH2 O)nCH2 COOH (III) (式中、R6 は、炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基を示し、1≦n≦10である。)で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩、並びにiii)ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (8件)：

C11D 1/94 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/20 ,  C11D 1:06 ,  C11D 1:90 ,  C11D 1:10 ,  C11D 3:20