特許
J-GLOBAL ID：200903080308035521
ガス発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-215952
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024764
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：
【要約】【目 的】本発明は、太陽あるいは人工光源からの光エネルギーを用い、溶液から水素ガスあるいは酸素ガス等のガスを公害等の虞の少ない手法で効率良く発生させることを目的としている。【構 成】本発明は、互いに接続された金属極及び窒化物半導体極を有し、両電極が溶媒中に設置されて成るガス発生装置、及び、光エネルギーを窒化物半導体に吸収させ、その表面又は該窒化物半導体接続された金属表面において溶媒を分解させることから成る、ガス発生方法に係る。
請求項（抜粋）：
互いに接続された金属極及び窒化物半導体極を有し、両電極が溶媒中に設置されて成るガス発生装置。
Fターム (4件)：
4G068DA02
, 4G068DB08
, 4G068DB26
, 4G068DD15
