特許
J-GLOBAL ID:200903080315697149

合金組成物およびめっき方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 千田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-309776
公開番号(公開出願番号):特開2001-158990
出願日: 2000年10月10日
公開日(公表日): 2001年06月12日
要約:
【要約】【課題】 合金組成物およびめっき方法を提供する。【解決手段】 錫-銅合金を基体上に堆積するための電解質組成物であって、該組成物は5〜100g/Lの錫、0.01〜10g/Lの銅、1以上の酸性電解質、および任意に1以上の添加剤を含み、実質的に鉛を含まないものである前記電解質組成物が開示される。
請求項(抜粋):
錫-銅合金を基体上に堆積するための電解質組成物であって、該組成物は5〜100g/Lの錫、0.01〜10g/Lの銅、1以上の酸性電解質、および任意に1以上の添加剤を含み、実質的に鉛を含まないものである前記電解質組成物。
IPC (3件):
C25D 3/60 ,  C25D 7/00 ,  C25D 7/12
FI (4件):
C25D 3/60 ,  C25D 7/00 G ,  C25D 7/00 J ,  C25D 7/12

前のページに戻る