特許

J-GLOBAL ID：200903080317457714

誘導結合プラズマの空間分布制御方法及びこの方法を実施するためのプラズマ発生装置及びエッチング装置

発明者： 佐々木 貴英 ,  林 厚 ,  原島 紀幸 ,  池田 均
出願人/特許権者： アルバック成膜株式会社 ,  株式会社アルバック
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-212528
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033306
出願日： 2000年07月13日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】広い面積でもエッチング速度を均一にできるプラズマの空間分布制御方法を提供する。【解決手段】少なくとも二重のループ状アンテナを用いて真空チャンバー内に放電プラズマを発生する際に、隣接したループ状アンテナの直径上対向した部位間の中間部位を被処理物の面に平行に維持しながら、直径上対向した部位の一方の間隔に対して直径上対向した部位の他方の間隔を連続的に変化させることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも二重のループ状アンテナを用いて真空チャンバー内に放電プラズマを発生する際に、隣接したループ状アンテナの直径上対向した部位間の中間部位を被処理物の面に平行に維持しながら、直径上対向した部位の一方の間隔に対して直径上対向した部位の他方の間隔を連続的に変化させることを特徴する誘導結合プラズマの空間分布制御方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 E ,  C23F 4/00 C ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B

Fターム (27件)：

4G075AA30 ,  4G075CA05 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075EE02 ,  4K057DA11 ,  4K057DA16 ,  4K057DB06 ,  4K057DB20 ,  4K057DD03 ,  4K057DD08 ,  4K057DG16 ,  4K057DM06 ,  4K057DM17 ,  4K057DM22 ,  4K057DM23 ,  4K057DM28 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13 ,  5F004CA05 ,  5F004DA04 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-101632   出願人：アネルバ株式会社
• 反応性イオンエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-193951   出願人：日本真空技術株式会社