特許
J-GLOBAL ID:200903080336394391

紫外線リトグラフィー用の結像システム及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 忠彦 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-531600
公開番号(公開出願番号):特表平11-506876
出願日: 1997年02月13日
公開日(公表日): 1999年06月15日
要約:
【要約】紫外線によって像を形成するための少なくとも1つの反射面を有する撮像システムであって、反射面には使用される放射線の波長に対して透明であり補正層が設けられている。この層は、反射面の形状の偏向によって生ずる位相差を補償する。補正層はわずかに1とは異なる屈折率を有し、そのため透明層の表面の精度に関して課される条件は明らかに反射面に対する条件よりも厳しくない。
請求項(抜粋):
紫外線によって像を形成し、使用される放射線の波長を反射する少なくとも1つの表面を含む結像システムであって、 該少なくとも1つの反射面には、使用される放射線の波長に対して透明であり、周囲の媒体の上記波長に対する屈折率とは最大10%異なる屈折率を有し、形状の不正確さに適合される可変の厚さを有する、反射面の形状の不正確さを補正するための補正層が設けられることを特徴とする結像システム。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 574 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開昭62-226047
  • 特開昭55-045061
審査官引用 (2件)
  • 特開昭62-226047
  • 特開昭55-045061

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