特許

J-GLOBAL ID：200903080363855139

電子材料用洗浄水

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-106239
公開番号（公開出願番号）：特開平11-302689
出願日： 1998年04月16日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：

【要約】【課題】電子材料の表面に付着した微粒子に対して優れた除去効果を有し、電子材料の洗浄に際して、ユースポイントで使用されなかった余剰の洗浄水や、汚れのない洗浄排水を、簡略な処理により超純水と同等の水質に改質して、洗浄やリンスに再利用することができ、電子材料のウェット洗浄プロセスとその周辺システムを簡略化することができる電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】純水に水素ガスと酸素ガスを溶解した洗浄水であって、溶存水素ガスと溶存酸素ガスのモル比が2.0:1〜2.5:1であり、かつ溶存水素ガスの飽和度と溶存酸素ガスの飽和度の和が40〜100%であることを特徴とする電子材料用洗浄水。

請求項（抜粋）：

純水に水素ガスと酸素ガスを溶解した洗浄水であって、溶存水素ガスと溶存酸素ガスのモル比が2.0:1〜2.5:1であり、かつ溶存水素ガスの飽和度と溶存酸素ガスの飽和度の和が40〜100%であることを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (2件)：

C11D 7/02 ,  H01L 21/304 647

FI (2件)：

C11D 7/02 ,  H01L 21/304 647 Z