特許
J-GLOBAL ID：200903080368452563

真空装置用部材

発明者：
阿部 昌則

阿部 昌則 について

, 
高橋 小弥太

高橋 小弥太 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-268413
公開番号（公開出願番号）：特開2007-081218
出願日： 2005年09月15日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】半導体等の製造におけるプラズマ処理装置(プラズマクリーニング装置、アッシング装置、スパッタ装置)等プラズマを用いる装置に使用する部材はプラズマによるエッチングによる消耗や、パーティクル発生による製品の汚染、歩留まり生産性低下等の問題があった。【解決手段】少なくともSi、O及び、3a族元素又は2a族とZrとから構成された耐蝕性溶射膜が表面にコーティングされた真空装置用部材は、プラズマに対する耐蝕性が高く、パーティクルの発生が少なく、このような耐蝕性部材は、例えば、窒化ケイ素、シリカ及び3a族酸化物粉末と、ジルコニア粉末との混合粉末を基材に対して溶射することによって製造することができる。【選択図】選択図なし
請求項（抜粋）：
不活性ガス、N2、H2、O2の中から選ばれるガスのプラズマに曝される真空装置用部材において、該部材表面に溶射膜が施されており、該溶射膜が少なくともSi、O及び3a族及び/又は2a族元素で構成されるガラス相を含むことを特徴とする真空装置用部材。
IPC (4件)：
H01L 21/306 ,  C23C 4/10 ,  C04B 41/87 ,  C03C 17/02
FI (4件)：
H01L21/302 101G ,  C23C4/10 ,  C04B41/87 J ,  C03C17/02 Z
Fターム (24件)：
4G059AA01 ,  4G059AA04 ,  4G059AC18 ,  4G059AC30 ,  4G059CA01 ,  4G059CB06 ,  4K029DA01 ,  4K029DC00 ,  4K030FA01 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K031AA01 ,  4K031AB02 ,  4K031AB09 ,  4K031CB42 ,  4K031CB46 ,  4K031CB48 ,  4K031DA01 ,  4K031DA03 ,  4K031DA04 ,  5F004AA15 ,  5F004BB30 ,  5F004BD01 ,  5F004BD05
引用特許：
出願人引用 (3件)

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