特許

J-GLOBAL ID：200903080373276072

防眩性に優れたステンレス鋼箔の製造方法

発明者： 藤井 芳弘 ,  鶴田 俊樹 ,  長崎 修司 ,  池本 雄司 ,  安武 英敏 ,  船井 武魅 ,  山本 裕 ,  岩本 道治 ,  橋本 利昭 ,  国続 保 ,  村田 静彦 ,  荒木 純
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 井上 雅生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-259770
公開番号（公開出願番号）：特開平8-103801
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】 本発明は防眩性に優れたステンレス鋼箔の製造方法の提供を目的とする。【構成】 表面粗さRaが0.20μm以上1.20μm以下のロールを用いて圧下率が15%以上30%以下の粗圧延を行い、続いて表面粗さRaが0.10μm以上0.20μm未満のロールを用いて圧下率が5%以上15%以下の中間圧延を行い、続いて表面粗さRaが0.01μm以上0.05μm以下のセラミックスロールを用いて圧下率が1%以上10%以下の仕上圧延を行う。また必要に応じて前記仕上圧延に続いて光輝焼鈍を行う。

請求項（抜粋）：

粗圧延,2パス以上の中間圧延および仕上圧延の順に圧延する最終冷間圧延工程において、表面粗さRaが0.20μm以上1.20μm以下のロールを用いて圧下率が15%以上30%以下の粗圧延を行い、引き続いて表面粗さRaが0.10μm以上0.20μm未満のロールを用いて各パスの圧下率が5%以上15%以下の中間圧延を行い、引き続いて表面粗さRaが0.01μm以上0.05μm以下のセラミックスロールを用いて圧下率が1%以上10%以下の仕上圧延を行うことを特徴とする防眩性に優れたステンレス鋼箔の製造方法。

IPC (4件)：

B21B 1/22 ,  B21B 3/02 ,  C21D 9/46 ,  C22C 38/00 301