特許
J-GLOBAL ID:200903080374187375

露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤元 亮輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-207527
公開番号(公開出願番号):特開2007-027418
出願日: 2005年07月15日
公開日(公表日): 2007年02月01日
要約:
【課題】 解像性の良い露光方法を提供する。【解決手段】 第1及び第2のパターンとを含むレチクルパターンを、光源からの光と光学系を用いて被露光体に露光する露光方法であって、前記第1のパターンと、前記第2のパターンに使用される可能性のある複数種類の代表パターンに関する情報を取得するステップと、前記第1のパターン及び前記複数種類の代表パターンに対して、前記光源及び前記光学系の少なくとも一の露光パラメータ、若しくは、前記パターンの大きさ又は形状を設定するステップとを有することを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図8
請求項(抜粋):
第1及び第2のパターンとを含むレチクルパターンを、光源からの光と光学系を用いて被露光体に露光する露光方法であって、 前記第1のパターンと、前記第2のパターンに使用される可能性のある複数種類の代表パターンに関する情報を取得するステップと、 前記第1のパターン及び前記複数種類の代表パターンに対して、前記光源及び前記光学系の少なくとも一の露光パラメータ、若しくは、前記パターンの大きさ又は形状を設定するステップとを有することを特徴とする露光方法。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (1件):
H01L21/30 514C
Fターム (5件):
5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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