特許
J-GLOBAL ID：200903080378329751
光学素子およびその製法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-030331
公開番号（公開出願番号）：特開2000-227506
出願日： 1999年02月08日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 アスペクト比が高く、あるいは異なる特性を有する複数の層からなる光学素子を簡単な工程で製造する方法の提供。【解決手段】 濡れ性の違いによるパターンの特定の濡れ性を有する部位に第1光学素子形成用組成物をコーティング法によって付着させる工程と、前記第1光学素子形成用組成物を硬化させて第1光学素子組成物層を得る工程と、前記第1光学素子組成物層と、第1光学素子組成物層がない部分との濡れ性の違いを利用して、前記第1光学素子組成物層上のみに、第2光学素子形成用組成物をコーティング法によって付着させる工程と、前記第2光学素子形成用組成物を硬化させて第2光学素子組成物層を得る工程を少なくとも含む、光学素子の製造方法。
請求項（抜粋）：
濡れ性の違いによるパターンの特定の濡れ性を有する部位に第1光学素子形成用組成物をコーティング法によって付着させる工程と、前記第1光学素子形成用組成物を硬化させて第1光学素子組成物層を得る工程と、前記第1光学素子組成物層と、第1光学素子組成物層がない部分との濡れ性の違いを利用して、前記第1光学素子組成物層上のみに、第2光学素子形成用組成物をコーティング法によって付着させる工程と、前記第2光学素子形成用組成物を硬化させて第2光学素子組成物層を得る工程、を少なくとも含むことを特徴とする、光学素子の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 3/00
, G02B 1/10
, G02B 7/02
G02B 3/00 A
, G02B 7/02 Z
, G02B 1/10 Z
2K009AA04
, 2K009BB11
, 2K009CC21
, 2K009DD01
