特許

J-GLOBAL ID：200903080390232240

キシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類の製造法

発明者： 篠山 浩文 ,  山崎 隆之 ,  福沢 栄太 ,  藤井 貴明 ,  松浦 明
出願人/特許権者： 天野製薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-151586
公開番号（公開出願番号）：特開平9-308493
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【目的】キシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類を高収率に製造する。【構成】ペニシリウム属に属し、キシラナーゼ活性をほとんど有せず、且つキシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類生成酵素生産能を有する菌株を培養し、得られた培養物若しくは培養物より採取されたキシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類生成酵素を多価フェノール類存在下でキシラン又はキシラン加水分解物に接触させ、キシロース残基又はキシロオリゴ糖残基を多価フェノール類に転移させることを特徴とするキシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類の製造法に関する。

請求項（抜粋）：

ペニシリウム属に属し、キシラナーゼ活性をほとんど有せず、且つキシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類生成酵素生産能を有する菌株を培養し、得られた培養物若しくは培養物より採取されたキシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類生成酵素を多価フェノール類存在下でキシラン又はキシラン加水分解物に接触させ、キシロース残基又はキシロオリゴ糖残基を多価フェノール類に転移させることを特徴とするキシロシル又はキシロビオシル多価フェノール類の製造法。

IPC (2件)：

C12P 7/22 ,  C12R 1:80