特許
J-GLOBAL ID：200903080391744857
加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜およびその形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-183631
公開番号（公開出願番号）：特開2000-017228
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：
【要約】【課題】 金属、プラスチックス等のあらゆる基材の表面に、加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜を形成する。加工性に優れた基材であれば、プレコートにより光触媒皮膜の形成を可能とする。【解決手段】 光触媒皮膜は、式RSi(X)3 で表される3官能シランと、式Si(X)4 で表される4官能シランとの加水分解・重縮合物と、光触媒としての二酸化チタン粒子とよりなる。光触媒皮膜の形成方法は、上記3官能シランと4官能シランとを、アルコールもしくはその他の有機溶媒、水、および酸触媒の存在下で、加水分解・重縮合して光触媒皮膜形成用ゾルを形成し、この光触媒皮膜形成用ゾルを光触媒としての二酸化チタン粒子と混合するか、または上記シラン化合物の反応開始時から二酸化チタン粒子を混合し、二酸化チタン粒子含有ゾルを金属板等の基材に塗布し、乾燥するか、または乾燥後さらに500°C以下の温度で熱処理する。
請求項（抜粋）：
式RSi(X)3 (式中、Rはアルキル基、フェニル基、またはビニル基よりなる炭化水素基、Xはアルコキシル基、またはハロゲンである)で表される3官能シランと、式Si(X)4 (式中、Xはアルコキシル基、またはハロゲンである)で表される4官能シランとの加水分解・重縮合物と、光触媒としての二酸化チタン粒子とよりなる、加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜。
IPC (3件)：
C09D183/04
, A61L 9/00
, C09K 3/00
C09D183/04
, A61L 9/00 C
, C09K 3/00 S
4C080AA07
, 4C080BB02
, 4C080CC01
, 4C080HH05
, 4C080JJ06
, 4C080KK08
, 4C080MM02
, 4C080NN29
, 4C080QQ03
, 4J038DL051
, 4J038DL052
, 4J038DL071
, 4J038DL072
, 4J038HA156
, 4J038HA216
, 4J038JA18
, 4J038KA04
, 4J038KA06
, 4J038KA20
, 4J038LA06
, 4J038NA02
, 4J038NA03
, 4J038NA23
, 4J038NA27
, 4J038PC02
