特許
J-GLOBAL ID：200903080398327437
大気圧プラズマによる表面処理方法および表面処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-233318
公開番号（公開出願番号）：特開2000-068096
出願日： 1998年08月19日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：
【要約】【課題】 大気圧下において生成したプラズマによって被処理物に物理的な表面処理を行えるようにする。【解決手段】 表面処理装置10は、プラズマ生成用のヘリウムとアルゴンとの混合ガスが処理ガス源24から供給される。プラズマ処理室12の内部には、高周波電源18に接続した高周波電極14と、これに対向して配置した接地電極16とが設けてある。高周波電極14は、放電面積が接地電極16より小さくなっていて、高周波電源18から供給された電力によってプラズマ22が生成された際に、接地電極16より大きなセルフバイアスが発生し、高周波電極14に固定した被処理物20にプラズマイオンが大きな速度で衝突するようにしてある。
請求項（抜粋）：
高周波電圧を印加する対向させた電極間に、大気圧またはその近傍の圧力下にある処理ガスを供給してイオン化し、生成したイオンを被処理物に照射する大気圧プラズマによる表面処理方法において、前記被処理物を対向する電極の一方に配置するとともに、前記被処理物を配置した前記一方の電極のプラズマ生成時における直流電圧成分の絶対値を他方の電極より大きくすることを特徴とする大気圧プラズマによる表面処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H 1/46 A
, H01L 21/302 B
5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BB13
, 5F004BB18
, 5F004BD07
, 5F004CA06
, 5F004CA09
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA26
