特許
J-GLOBAL ID：200903080401362290
基板乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-151799
公開番号（公開出願番号）：特開平7-014819
出願日： 1993年06月23日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：
【要約】【目的】 エアーナイフによる基板の乾燥処理時に不純物質(パーティクル)が基板に付着することを防止する。【構成】 クリーンユニット部1から下方に向けて清浄な空気を乾燥室3内に吹き出し、乾燥室3内を通して排出部2に至るダウンフロー流を形成し、エアーナイフ8,9からの空気流を受けて基板Sから飛散した水滴又はミストをダウンフロー流に乗せて排出部2内に送り込み、浮遊する水滴等を乾燥室3から強制排除する。したがって、水滴等が基板Sに再付着することにより、水滴中に含まれるパーティクルによる基板Sの乾燥面の汚染を防止する。
請求項（抜粋）：
クリーンユニット部を乾燥室に有する基板乾燥装置であって、乾燥室は、基板搬送路と、エアーナイフと、排出部と、給水ノズルとを有し、基板搬送路は、基板を乾燥室の内外に搬入・排出するものであり、乾燥室を横切って設置され、エアーナイフは、乾燥室内に搬入された基板搬送路上の基板に、乾燥用の空気を吹き付けるものであり、排出部は、乾燥室内の底部に開口され、排出部に至る乾燥室の内壁は、漏斗状に形成され、給水ノズルは、基板搬送路より下方の漏斗状内壁に設けられ、清浄な水を内壁に流下させるものであり、クリーンユニット部は、基板搬送路より上方に配設され、清浄な空気を乾燥室内に送気し、基板搬送路を通過して排出部に至るダウンフロー流を形成し、基板から飛散した水滴及びミストをダウンフロー流に乗せて、これらを排出部から強制的に排水・排気するものであることを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 361
, F26B 15/12
