特許
J-GLOBAL ID：200903080402748370
パターンマスクの作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
鈴木 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-335872
公開番号（公開出願番号）：特開平6-186724
出願日： 1992年12月16日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、主としてプリント基板の回路パターン形成のためのパターンマスク(原板)の作成方法に関するもので、パターン密度に応じたパターン幅に容易に補正できるようにすることを目的とする。【構成】 本発明の実施例としては、レーザービームプロッターを使用し、入力した作画データをラスター変換して、そのラスター変換データを補正してから、レーザービーム照射をし、基板1上のパターン2の密度(間隙Bの違い)に応じた例えばレジストパターン3の幅1を最適値にするようにしたものである。
請求項（抜粋）：
パターンマスクの作画データを入力後、所定ピッチの画素に分解するラスター変換を行ない、該ラスターデータに、パターン間隙ごとに与えられている補正データを反映させることにより、パターンの作製を行なうパターンマスクの作製方法。
IPC (2件)：
G03F 1/00
, B23K 26/00 320
