特許
J-GLOBAL ID:200903080403047243

レーザー蒸着膜作製用ターゲット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 敏夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-048561
公開番号(公開出願番号):特開平6-239695
出願日: 1993年02月15日
公開日(公表日): 1994年08月30日
要約:
【要約】【目的】 レーザー蒸着法によって薄膜を作製した場合に、微小な異物が薄膜表面に生じないターゲットを提供すること。【構成】 収束したレーザー光1をターゲット18に照射してプラズマ化し、ターゲット物質の薄膜を基板5上に堆積させるレーザー蒸着薄膜作製法において利用されるターゲットであって、ターゲットが単結晶または、ほぼ密度がバルクと等しい多結晶体からなるレーザー蒸着膜作製用ターゲット。
請求項(抜粋):
収束したレーザー光をターゲットに照射してプラズマ化し、前記ターゲット物質の薄膜を基板上に堆積させるレーザー蒸着薄膜作製法において利用されるターゲットであって、前記ターゲットが単結晶または、ほぼ密度がバルクと等しい多結晶体からなることを特徴とするレーザー蒸着膜作製用ターゲット。
IPC (4件):
C30B 23/08 ,  C01G 1/00 ,  C23C 14/28 ,  H01L 21/203
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-214098
  • 特開平4-119968
  • 特開平3-104953
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