特許
J-GLOBAL ID：200903080405104201
光デイスク基板製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高野 明近 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-301147
公開番号（公開出願番号）：特開平5-114174
出願日： 1991年10月21日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】 スタンパと支持板の間の間隙に充填させる紫外線硬化樹脂が常に一定速度で前記間隙を広がることができ、従って、加圧時間が固定化でき、紫外線硬化樹脂の厚さを連続転写においても一定に保つことのできる光ディスク製造装置を提供する。【構成】 スタンパ1の温度は、サーミスタ5、温度調整器6によって温度調整流路7を流れる流体の温度を調整することによって行う。本発明は、更にスタンパ1上に積層する前の紫外線硬化樹脂3の樹脂温度を、保温材シート11の温度をコントロールして微量吐出ディスペンサー10で行っている。
請求項（抜粋）：
所定の凹凸形状を有するスタンパの上に紫外線硬化樹脂と支持板とを順次積層し、前記支持板の上に加圧用平坦ガラスを当接せしめて該加圧用平坦ガラスを加圧して前記紫外線硬化樹脂を所定の厚さにした後、この紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して硬化させて前記スタンパ上の凹凸形状を該紫外線硬化樹脂に転写する光ディスク基板の製造装置であって、前記スタンパを温調して一定温に保つことのできる光ディスク基板製造装置において、前記スタンパ上に積層する前の紫外線硬化樹脂の樹脂温度をコントロールすることのできる制御手段を有することを特徴とする光ディスク基板製造装置。
IPC (3件)：
G11B 7/26 511
, B29C 41/20
, B29L 17:00
