特許

J-GLOBAL ID：200903080419231435

マスクの異物除去装置

発明者： 塚本 雅美 ,  雨宮 光陽
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-064122
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260245
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 マスクの洗浄をなくし、修正などの回数を低減し、マスクの使用効率を向上させる。また、露光装置内で積極的に異物を除去することにより、スループットを向上させる。【解決手段】 例えば、X線マスク上の異物を、帯電あるいは誘電分極させることによって除去する。具体的には、X線マスクのマスクパターンに対向する位置に電極を設け、異物を停電させるかあるいは分極させることによってマスクから除去する。

請求項（抜粋）：

光、電子線、放射線等を用いて所望の回路パターンをウエハ上に転写する露光に用いられる露光用マスクおいて、露光用マスクに付着した異物を帯電させる手段または分極させる手段を具備してなる露光用マスクの異物除去装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

H01L 21/30 503 G ,  G03F 1/08 X ,  H01L 21/66 J