特許
J-GLOBAL ID：200903080420844904

熱およびプラズマ増強蒸着のための装置および操作方法

発明者：
李 一成

李 一成 について

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石坂 忠大

石坂 忠大 について

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山本 薫

山本 薫 について

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五味 淳

五味 淳 について

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原 正道

原 正道 について

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藤里 敏章

藤里 敏章 について

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ジャック・ファーゲ

ジャック・ファーゲ について

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水澤 寧

水澤 寧 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (12件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  砂川 克 ,  橋本 良郎 ,  風間 鉄也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-311396
公開番号（公開出願番号）：特開2007-162131
出願日： 2006年11月17日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
【課題】 熱およびプラズマ増強蒸着のための装置および操作方法を提供することである。【解決手段】 基板上の蒸着のための方法、コンピュータ読み取り可能なメディアおよびシステムであって、処理システムの移送空間から真空アイソレーションされた処理システムの処理空間に基板を配置し、移送空間から真空アイソレートが維持されている間、処理空間の第1の位置または第2の位置のいずれかで基板を処理し、前記第1の位置または第2の位置のいずれかで前記基板に材料を堆積させる。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
基板に堆積物を形成するための堆積システムであって: 材料堆積を容易にするように構成された処理空間を有する第1のアセンブリと; 前記第1のアセンブリに組み合わせられ、前記堆積システムとの間で前記基板の移送を容易にするための移送空間を有する第2のアセンブリと; 前記第2のアセンブリに接続され、前記処理空間のサイズを変化するように前記処理空間の第1の位置から前記処理空間の第2の位置までの間を前記基板を支持し移動するように構成された基板ステージと; 前記処理空間と、前記処理空間内の前記基板の移動の間の前記移送空間との間のガス流れを妨げるように構成された封止を有するシーリングアセンブリと;を具備する堆積システム。
IPC (6件)：
C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/318 ,  H01L 21/285
FI (7件)：
C23C16/455 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 C ,  H01L21/31 B ,  H01L21/316 X ,  H01L21/318 B ,  H01L21/285 C
Fターム (99件)：
4K030AA03 ,  4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA11 ,  4K030AA12 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA01 ,  4K030BA02 ,  4K030BA08 ,  4K030BA10 ,  4K030BA12 ,  4K030BA13 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030BA21 ,  4K030BA22 ,  4K030BA36 ,  4K030BA38 ,  4K030BA40 ,  4K030BA41 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030EA03 ,  4K030FA03 ,  4K030FA10 ,  4K030GA04 ,  4K030HA01 ,  4K030JA02 ,  4K030JA10 ,  4K030JA18 ,  4K030KA08 ,  4K030KA10 ,  4K030KA12 ,  4K030KA24 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  4M104AA04 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB14 ,  4M104BB17 ,  4M104BB18 ,  4M104BB30 ,  4M104BB32 ,  4M104BB33 ,  4M104BB34 ,  4M104BB36 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45 ,  4M104EE16 ,  4M104EE17 ,  4M104HH08 ,  4M104HH09 ,  5F045AA03 ,  5F045AA04 ,  5F045AA08 ,  5F045AB14 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB37 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045BB02 ,  5F045BB03 ,  5F045BB14 ,  5F045BB17 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EE19 ,  5F045EF05 ,  5F045EG01 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20 ,  5F045EJ03 ,  5F045EK07 ,  5F058BA05 ,  5F058BA10 ,  5F058BC02 ,  5F058BC03 ,  5F058BC08 ,  5F058BC09 ,  5F058BD04 ,  5F058BD05 ,  5F058BD10 ,  5F058BD12 ,  5F058BF02 ,  5F058BF06 ,  5F058BF07 ,  5F058BF24 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BF30 ,  5F058BF37 ,  5F058BJ02
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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