特許
J-GLOBAL ID：200903080433265954
熱処理装置用ランプの冷却装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲垣 仁義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-218279
公開番号（公開出願番号）：特開平8-060371
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】【目的】この発明は、ランプと反応管とを略均一に十分冷却することができる熱処理装置用ランプの冷却装置を提供することを目的とする。【構成】この発明に於いては、輻射熱によって前記被処理基板を加熱するランプの背面に設けた反射板に、冷却用空気の噴出口を形成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
反応管内に被処理基板を収容し、前記反応管外部からランプの輻射熱によって前記被処理基板を加熱し、前記反応管内にガスを流して被処理基板に気相成長させる基板の熱処理装置に於いて、前記ランプの背面に設けた反射板に、冷却用空気の噴出口を形成したことを特徴とする熱処理装置用ランプの冷却装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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