特許

J-GLOBAL ID：200903080435012565

フォトニッククリスタルファイバの製造方法

発明者： 山本 哲也 ,  田中 正俊 ,  小柳 繁樹 ,  藤田 盛行 ,  中沢 正隆 ,  久保田 寛和 ,  川西 悟基
出願人/特許権者： 三菱電線工業株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 前田 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-006394
公開番号（公開出願番号）：特開2002-211941
出願日： 2001年01月15日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】 線引き加工時における水酸基の形成が抑制され、従来に比べて低伝送ロスのPCファイバを得ることができるPCファイバの製造方法を提供する。【解決手段】 多数のキャピラリ1,1,...をキャピラリ孔が横断面において所定格子配列を形成するように束ねると共に、コアロッド2を中心軸位置に配置してプリフォーム4を作製し、そのプリフォーム4を線引き加工して細径化することによりフォトニッククリスタルファイバを製造する方法であって、多数のキャピラリ1,1,...の各々の両端を封止する。

請求項（抜粋）：

キャピラリ孔が横断面において所定格子配列を形成するように多数のキャピラリを束ねると共に、中心軸位置にコアロッドを配置して又はコア空間を形成してプリフォームを作製し、該プリフォームを線引き加工して細径化することによりフォトニッククリスタルファイバを製造する方法であって、上記多数のキャピラリの各々の両端を封止することを特徴とするフォトニッククリスタルファイバの製造方法。

IPC (4件)：

C03B 37/012 ,  C03B 37/028 ,  G02B 6/00 356 ,  G02B 6/20

FI (4件)：

C03B 37/012 B ,  C03B 37/028 ,  G02B 6/00 356 A ,  G02B 6/20 Z

Fターム (4件)：

2H050AB04Z ,  2H050AC62 ,  4G021AA01 ,  4G021BA11

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 微細構造光ファイバ用母材及び微細構造光ファイバの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-034794   出願人：住友電気工業株式会社
• 微細構造光ファイバ用母材及び微細構造光ファイバの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-034801   出願人：住友電気工業株式会社
• フォトニッククリスタルファイバの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-287528   出願人：三菱電線工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• フォトニッククリスタルファイバの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-330172   出願人：三菱電線工業株式会社, 日本電信電話株式会社

審査官引用 (2件)

• 微細構造光ファイバ用母材及び微細構造光ファイバの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-034794   出願人：住友電気工業株式会社
• 微細構造光ファイバ用母材及び微細構造光ファイバの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-034801   出願人：住友電気工業株式会社