特許
J-GLOBAL ID:200903080436313151

マスク配設装置およびスパッタリング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-223488
公開番号(公開出願番号):特開2000-054124
出願日: 1998年08月07日
公開日(公表日): 2000年02月22日
要約:
【要約】【課題】 液晶用ガラス基板等の比較的大型の基板に対して、プラズマによる薄膜形成やエッチングを行う各種装置に採用されるマスク配設装置おいて、メンテナンス部品であるマスクから温度調節機構等の機能を分離することによって、作業工数や故障率を低減させることを目的とする。【解決手段】 チャンバー3側に、温度調節機構24を有するマスクベース23を設け、マスクベース23上にマスク5を配設した。メンテナンスの必要なマスク5をマスクベース23から取り外すだけで、チャンバー3内の作業は終了する。マスク5の温度調節機構24はマスクベース23に存在し、マスク5にはないため、通常の膜を除去するメンテナンス時には温度調節機構24を取り外す必要はなく、メンテナンス作業を簡素化でき、ダストを発生する機会は低減する。
請求項(抜粋):
真空状態で処理ガスのプラズマによって基板を処理するチャンバー内で、平行平板式に構成された一対の電極の間にマスクを配設するに、チャンバー側に、温度調節機構を有するマスクベースを設け、このマスクベース上にマスクを配設したことを特徴とするマスク配設装置。
IPC (5件):
C23C 14/34 ,  C23C 14/04 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (5件):
C23C 14/34 T ,  C23C 14/04 A ,  H01L 21/203 S ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 C
Fターム (14件):
4K029DC35 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB32 ,  5F004BC08 ,  5F004BD05 ,  5F103AA08 ,  5F103BB11 ,  5F103BB13 ,  5F103BB25 ,  5F103BB60 ,  5F103RR10

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