投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-166163
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015167
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】使用頻度の高いレチクルをレチクルステージに近いスロットに収容してスループットを向上させる。【解決手段】複数枚のレチクルをレチクルライブラリ10〜12に収容する。投影露光系20のレチクルステージ18にはレチクルチェンジャ19が設けられ、1品種の投影露光に使用する複数枚のレチクルはレチクルチェンジャ19にセットされている。レチクルライブラリ10〜12とレチクルチェンジャ19との間で搬送装置はレチクルを搬送する。レチクルの使用頻度を算出して、算出された頻度が高いレチクルほどレチクルステージ18との間での搬送時間が短くなるように、レチクルライブラリ10〜12内でのレチクルの収容位置を並び替える。

請求項（抜粋）：

レチクルステージ上に載置されているレチクルを照明し、レチクルに形成されているパターンを投影光学系を介して感応基板に投影して露光する投影露光系と、複数枚のレチクルを収容するレチクルライブラリと、このレチクルライブラリと前記レチクルステージとの間でレチクルを搬送する搬送装置とを備えた投影露光装置において、前記レチクルの使用頻度を算出して、算出された頻度が高いレチクルほど前記レチクルステージとレチクルライブラリとの間での搬送時間が短くなるように、前記レチクルライブラリ内のレチクルの収容位置を設定し、設定された位置にレチクルを並び替えるように前記搬送装置を制御する制御装置を具備することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 521 , G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/20 521 , G03F 1/14 M , H01L 21/30 514 D

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