特許

J-GLOBAL ID：200903080457128672

荷電ビーム描画装置の成形ビームの評価方法及び荷電ビーム描画方法

発明者： 安 藤 厚 司 ,  砂 押 仁 ,  和 田 寛 次 ,  杉 原 和 佳
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-217940
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063933
出願日： 1995年08月25日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 設定寸法と実寸法のドリフトによるずれを評価する。【解決手段】 断面がa×bの長方形に成形されたビームの一辺を1/nに分割して短冊状のビームにする第1のステップと、短冊状のビームを試料面上又は可動ステージ上に一定時間以上照射する第2のステップと、分割した方向のビーム幅にバイアス値δを加えたビームに成形する第3のステップと、このように成形されたビームを試料面上の感光材に一定時間照射して露光する第4のステップと、バイアス値を加えたビームを分割方向に(被分割辺の長さ/n)だけずらす動作を(n-1)回繰り返した後、感光材を現像してパターン幅θを求める第5のステップと、分割数nおよびバイアス値δを変えて第1乃至第5のステップを繰り返す第6のステップと、バイアス値δ毎にθの変化率Δθ/Δnを求め、この変化率とバイアス値からオフセットドリフト量を求める第7のステップとから成る。

請求項（抜粋）：

第1の成形アパーチャを通過した荷電ビームを偏向し、第2の成形アパーチャを通過する前記荷電ビームの寸法を制御して可変成形ビームを成形し、この可変成形ビームを用いて、可動ステージ上に載置された試料上に所望のパターンを描画する荷電ビーム描画装置を用いて前記可変成形ビームを評価する荷電ビーム描画装置の成形ビームの評価方法において、x方向の寸法がaでかつ前記x方向に直角なy方向の寸法がbであるように成形されたビームの一方の辺を1/nに分割して短冊状のビームを成形する第1のステップと、前記短冊状のビームを前記試料面上又は前記可動ステージ上に一定時間以上照射する第2のステップと、前記分割した方向のビーム幅にバイアス値δを加えたビームを成形する第3のステップと、前記成形されたバイアス値を加えたビームを前記試料面上の感光材に一定時間照射して露光する第4のステップと、前記一方の辺の寸法の1/nだけ、分割した方向に、前記バイアス値を加えたビームをずらして前記第4のステップの動作を行うことを(n-1)回繰り返した後、前記感光材を現像してパターン幅θを求める第5のステップと、前記分割数nおよびバイアス値δを変化させて前記第1乃至第5のステップを繰り返す第6のステップと、前記バイアス値δの各々に対して、前記分割数nに関する前記パターン幅θの変化率Δθ/Δnを求め、この変化率と前記バイアス値に基づいてオフセットドリフト量を求める第7のステップと、を備えていることを特徴とする荷電ビーム描画装置の成形ビームの評価方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04

FI (3件)：

H01L 21/30 541 E ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 M