特許
J-GLOBAL ID：200903080458948010
多層膜光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人オカダ・フシミ・ヒラノ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-090647
公開番号（公開出願番号）：特開2007-264388
出願日： 2006年03月29日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：
【課題】外観の良好な多層膜光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス等の基板1の上にアルミニウム薄膜2を成膜し、さらにその上にSiO2薄膜3を成膜する(a)。そして、GCIBを使用してラテラルスパッタを行う(b)。これにより、SiO2薄膜3の表面粗さは、1nm以下となる。その上に、多層薄膜4を成膜する(c)。多層薄膜4としては、例えばNb2O5薄膜とSiO2薄膜を交互に積層したものがある。最終的には、SiO2薄膜3も多層膜の一部となる。最後に、アルミニウムエッチング液によりアルミニウム薄膜2を溶解し、多層膜(SiO2薄膜3と多層薄膜4)を基板1から分離する(d)。SiO2薄膜3の表面粗さが、評価長さ1mmのRMSで1nm以下とされているので、分離された多層膜からなる多層膜光学素子は、良好な外観を有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の上に可溶性担体の薄膜を成膜し、前記可溶性担体の上に、多層光学薄膜を成膜し、その後、前記可溶性担体の薄膜を溶解させて、前記基板と前記多層光学薄膜を分離する工程を含む多層膜光学素子の製造方法であって、前記多層光学薄膜のうち最下層の薄膜が、表面粗さがRMSで1nm以下のSiO2であることを特徴とする多層膜光学素子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
2H048GA04
, 2H048GA12
, 2H048GA33
, 2H048GA60
, 2H048GA61
, 2H048GA65
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA03
, 4K029BA43
, 4K029BA46
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029CA01
, 4K029CA05
, 4K029DC37
, 4K029GA05
