特許

J-GLOBAL ID：200903080461866734

ガスライン自動パージシステム

発明者： 新福 悟
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-263894
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085342
出願日： 1999年09月17日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 真空チャンバーが設置された処理室の内外にあるバルブの開閉操作を効率的に行うとともにバルブ開閉の誤操作を防止するガスライン自動パージシステムを提供する。【解決手段】 半導体処理室1内に設けた真空チャンバー2と、この半導体処理室1の外部から前記真空チャンバー2に反応ガス又はパージガスを導入する配管系7と、前記半導体処理室1の内部および外部の前記配管系7上にバルブ4,6,8,9,10が設けられたガスラインのパージシステムにおいて、前記半導体処理室1の内部および外部のバルブ4,6,8,9,10,11の開閉を1ヶ所で制御するバルブ制御操作部14を前記半導体処理室1内に設けた。

請求項（抜粋）：

半導体処理室内に設けた真空チャンバーと、この半導体処理室の外部から前記真空チャンバーに反応ガス又はパージガスを導入する配管系と、前記半導体処理室の内部および外部の前記配管系上にバルブが設けられたガスラインのパージシステムにおいて、前記半導体処理室の内部および外部のバルブの開閉を1ヶ所で制御するバルブ制御操作部を前記半導体処理室内に有することを特徴とするガスライン自動パージシステム。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/02 D ,  H01L 21/302 B

Fターム (9件)：

5F004AA16 ,  5F004BC08 ,  5F004CA01 ,  5F004DA25 ,  5F045AC15 ,  5F045BB08 ,  5F045BB20 ,  5F045EB11 ,  5F045EC07