特許

J-GLOBAL ID：200903080464842216

表面処理剤

発明者： 浅井 光雄 ,  上原 仁
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303552
公開番号（公開出願番号）：特開平11-116809
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：

【要約】【解決手段】 式(1)の有機ケイ素化合物と、式(2)の有機ケイ素化合物とを含有する表面処理剤。 Rf-R1Si(NH)3/2 (1)〔RfはC1〜C10のパーフロロアルキル基、R1はC2〜C10の2価炭化水素基である。〕【化1】〔R2はC1〜C10の1価炭化水素基、R3は-R6-SiR7aX3-a(R6はC2〜C10の2価炭化水素基又は酸素原子、R7はC1〜C10の1価炭化水素基、Xはハロゲン原子、C2〜C10のアシロキシ基又はC1〜C10のアルコキシ基、aは0〜2の整数である。)で表わされる加水分解性基、R4はフッ素原子を含んでいてもよいC1〜C10の1価炭化水素基、R5はR3又はR4を示すが、各R5は互いに同一であっても異なっていてもよい。kは0〜100、mは0〜100、nは0〜5の整数であるが、nが0の場合、R5の少なくとも1個はR3である。〕【効果】 本発明で得られる表面処理剤を処理した基材は、高撥水性、高撥油性であるばかりでなく、汚れの拭き取り性を向上できる。

請求項（抜粋）：

下記一般組成式(1)で表わされる有機ケイ素化合物と、下記一般式(2)で表わされる有機ケイ素化合物とを含有することを特徴とする表面処理剤。 Rf-R1Si(NH)3/2 (1)〔式中、Rfは炭素数1〜10のパーフロロアルキル基、R1は炭素数2〜10の2価炭化水素基である。〕【化1】〔式中、R2は互いに同一又は異種の炭素数1〜10の1価炭化水素基、R3は下記一般式(3)【化2】(ここに、R6は炭素数2〜10の2価炭化水素基又は酸素原子、R7は炭素数1〜10の1価炭化水素基、Xはハロゲン原子、炭素数2〜10のアシロキシ基又は炭素数1〜10のアルコキシ基、aは0〜2の整数である。)で表わされる加水分解性基、R4はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5はR3又はR4を示すが、各R5は互いに同一であっても異なっていてもよい。kは0〜100、mは0〜100、nは0〜5の整数であるが、nが0の場合、R5の少なくとも1個はR3である。〕

IPC (3件)：

C08L 83/04 ,  C03C 17/30 ,  C08L101/10

FI (3件)：

C08L 83/04 ,  C03C 17/30 A ,  C08L101/10