特許
J-GLOBAL ID：200903080498214290
気流層石炭ガス化装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉岡 宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-214923
公開番号（公開出願番号）：特開2004-051915
出願日： 2002年07月24日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】伝熱管へのダストの付着を抑制する。【解決手段】微粉体を加熱するガス化室11と、ガス化室11で発生した生成ガスが通流し、かつ、生成ガスの熱を回収する伝熱管25a〜25dが設けられた熱回収室9とを備え、この熱回収室11の生成ガスが通流する流路の一部を規制する板部材33a〜33dを設けて、生成ガスの流速を上げることで、伝熱管25a〜25dへのダストの付着を抑制することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
微粉体の炭素質原料を加熱するガス化部と、該ガス化部で発生した生成ガスが通流する流路を形成し該流路中の生成ガスの熱を回収する熱回収手段が配置された熱回収部と、前記流路の流路断面を狭くする規制部材とを備えた気流層石炭ガス化装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C10J3/46 D
, C10J3/46 M
, C10J3/48
