特許

J-GLOBAL ID：200903080499008065

露光方法および露光装置

発明者： 原 真一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-025818
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209036
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】 露光中のウエハの昇温を防ぐ。【解決手段】 ピンチャック型のウエハチャックE1 は、本体1の凹所1aをヘリウムガスの減圧雰囲気に制御して、ウエハW1 の表面の雰囲気圧力との差によって、外周リブ1bや突起1cにウエハW1 を吸着保持する。本体1の内部配管2に温調流体を流して凹所1aのヘリウムガスの対流等によってウエハW1 を冷却する。露光中は、凹所1aのヘリウムガスの圧力を低下させ、ヘリウムガスの断熱膨張による温度低下を利用してウエハW1 の昇温を防ぐ。

請求項（抜粋）：

空所を有する基板保持手段の基板保持面に基板を保持し、該基板を露光する工程を有し、前記基板保持手段の前記空所のガスの圧力を変化させることで、前記基板の温度を調節することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02

FI (5件)：

H01L 21/30 502 H ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 503 C ,  H01L 21/30 531 A