特許

J-GLOBAL ID：200903080503313242

グレイ・レベル・マスクおよびその製造方法

発明者： ジヨン・エドワード・クローニン ,  ポール・オールデン・フアラー・シニア ,  カーター・ウエリング・カアンタ ,  ジエームズ・ガードナー・リヤン ,  アンドリユー・ジヨセフ・ワツツ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 頓宮 孝一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-233810
公開番号（公開出願番号）：特開平6-342206
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：

【要約】【目的】異なる光学的な伝達性を有する複数のレベルの材料を支承する透明なガラス基板からなる、ホトリソグラフィのために適当なグレイ・レベル・マスクを提供する。【構成】2個のレベルだけを用いるマスクの場合においては、その第1の層24Aは、ガラスの製造において用いられるアルカリ金属シリケートの金属イオンに代えて銀イオンの置換をすることにより、部分的に伝達性を有するようにされたガラスで構成することができる。その第2の層24Bは、クロムのような金属層で構成することにより不透明にすることができる。異なる光学的な伝達性を有するレベルの材料の露出領域について選択的なエッチング操作を可能にするために、特定の領域においてホトリソグラフィ的なマスキング操作でエッチングされるホトレジスト構成体26の助けにより、該マスクの構成がなされる。

請求項（抜粋）：

光伝達性の材料からなる基板;前記基板の光伝達性よりも低い第1の光伝達性を有する材料からなる第1の層であって、前記第1の層の光伝達性は前記の光とは異なる放射に応答して調節可能であり、前記放射は電子ビームの放射およびX線放射を含む放射のクラスから引き出される前記第1の層;前記基板の光伝達性よりも低いが、ゼロ光伝達性よりも高いかこれに等しい第2の光伝達性を有する材料からなる第2の層;を含んでなるグレイ・レベル・マスクであって:前記第1の層および第2の層は前記基板により支承されていて、前記第1の層は前記基板と前記第2の層との間に配されており;前記第1の層は前記基板と部分的に重なり、前記基板の一部を露出して、比較的高レベルの密度をもって光の伝播をすることが許容されており;そして前記第2の層は前記第1の層と部分的に重なり、前記第1の層の一部を露出するとともに前記基板の前記一部を露出して、前記第1の層の露出した部分はある適度なレベルの密度をもって光の伝播をすることを許容しており、また、前記第2の層は光を殆どまたは全く伝達しない;ようにされている前記のグレイ・レベル・マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-173053
  
• 特開昭63-018351
  
• 特開昭62-059956