特許
J-GLOBAL ID：200903080503341920
薬液の純度評価法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-219729
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062958
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：
【要約】【目的】薬液の純度評価法において、薬液中の0.1ppb以下の金属不純物の分析が行え、薬液のサンプリングが不用で、かつ前処理操作が短時間にかつ簡便に行える薬液の純度評価法を提供する。【構成】表面を清浄化したシリコンウェハーを薬液に一定時間浸漬した後、水洗・乾燥し、当該ウェハー表面に付着した金属不純物を分析する。また、ウェハー表面に付着した金属不純物をフッ酸蒸気で分解し、分解物を回収し、当該回収液中の金属不純物を高感度分析装置で分析する。
請求項（抜粋）：
表面を清浄化したシリコンウェハーを薬液に一定時間浸漬した後、水洗・乾燥し、当該ウェハー表面に付着した金属不純物を分析することを特徴とする薬液の純度評価法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/66
